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氧化鈮靶材的研制
2012年4月5日


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    五氧化二鈮靶材作為濺射鍍膜用材料,被用于光學干涉濾波器電化色薄膜和氣體傳感器等領域,是等離子顯示器重要的鍍膜材料之一。項目通過自主創新,突破了粉末預處理、靶材熱壓工藝等關鍵技術,研制出了一整套具有自主知識產權的五氧化二鈮靶材生產工藝技術,并建成年產3噸五氧化二鈮靶材中試生產線。產品純度達到了99.99%以上,密度達到了4.54 g/cm3,技術水平達到國內領先、國際先進水平;制定了“氧化鈮靶材”企業標準;產品得到了韓國AVATEC公司的認證和使用,經濟效益良好,市場前景廣闊。

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